朱昌

作品数：53被引量：131H指数：6
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供职机构：西安工业大学更多>>
发文主题：类金刚石薄膜离子镀离子源类金刚石膜激光损伤阈值更多>>
发文领域：理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>
发文期刊：《材料科学与工程学报》《真空电子技术》《红外》《中国科技信息》更多>>
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霍尔无栅离子源的研制及应用被引量：1
《表面技术》2012年第2期58-60,共3页王稳奇 朱昌 
基于离子束辅助镀膜技术,自主研制了一款新型霍尔无栅离子源,利用该离子源,采取离子束辅助沉积方法,在玻璃基底上镀制了多种光学薄膜,并对所镀制光学薄膜的性能进行了测试。测试结果表明:所研制的霍尔无栅离子源制备的各种光学薄膜,其...
关键词：霍尔无栅离子源 离子束辅助沉积 光学薄膜 
氧流量对磁控溅射ZrO_2薄膜光学性能的影响被引量：1
《表面技术》2011年第5期18-20,53,共4页戚云娟 朱昌 梁海峰 
采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜。用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计,分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率,研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响。结果表明:随着氧气流量增加到22～24mL/min(标准...
关键词：ZRO2薄膜 反应磁控溅射 氧流量 光学特性 
离子束反应溅射沉积SiO_2薄膜的光学特性被引量：3
《应用光学》2011年第2期236-240,共5页米高园 朱昌 戚云娟 达斯坦科 格拉索夫 扎瓦斯基 
陕西省国际合作基金(20086100092)
主要研究采用离子束反应溅射(RIBS)制备SiO2薄膜的折射率、消光系数、化学计量比与氧气在氩氧混合工作气体中含量及其沉积速率的关系。研究结果表明:RIBS制备的SiO2薄膜在0.63μm处折射率n=1.48,消光系数小于10-5;随着沉积速率的增加,...
关键词：氧化硅 反应离子束溅射 光学常数 沉积速率 
比较2种溅射方法镀制的氧化硅薄膜被引量：1
《应用光学》2010年第5期855-859,共5页朱昌 米高园 达斯坦科 格拉索夫 扎瓦斯基 
比较了磁控反应溅射（RMS）法与离子束反应溅射（RIBS）法沉积得到的氧化硅薄膜的光学特性,并确定了其对折射率n、消光系数k、沉积速率和混合工作气体Ar/O2中氧含量的依赖性关系。工作气体中O2含量大于15%时通过RMS法沉积的氧化硅薄膜在...
关键词：磁控反应溅射 离子束反应溅射 折射率 消光系数 
清洗刻蚀源的均匀性分析
《西安工业大学学报》2009年第2期117-121,共5页朱昌 王稳奇 
表面工程技术国防科技重点实验室(9140C540201060C54)
为了研制具有高性能的离子源,进而获得高质量的加工工艺,用自制的法拉第筒对清洗刻蚀源均匀性进行了测试,分析了影响离子束均匀性的主要因素,并采用清洗刻蚀离子源进行氩离子束刻蚀.实验结果表明:采用双圈发射型结构比采用单圈结构所得...
关键词：离子源 束流密度 均匀性 离子束刻蚀 表面粗糙度 
退火温度对TiO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：4
《表面技术》2009年第1期40-42,共3页刘佳 朱昌 
为制备光学性能良好的TiO2薄膜。采用离子束溅射(IBS)的方法,改变退火温度,在Si基底上制备氧化钛(TiO2)薄膜。利用XRD、XPS、SEM测试薄膜的成分、结晶形式和表面形貌,椭圆偏振光谱仪分析薄膜折射率和消光系数。试验结果发现:随退火温度...
关键词：TIO2 退火温度 结晶 光学性能 薄膜 离子束溅射 
氧气浓度对ZnO薄膜表面形貌和微结构的影响被引量：1
《电子元件与材料》2009年第1期28-30,共3页肖慧 徐哈宁 朱昌 
陕西省外国专家局专项科研基金资助项目(No.05JS02)
采用反应磁控溅射技术，在SiO2基底上制备了ZnO薄膜。通过原子力显微镜（AFM）和X射线电子能谱仪（XPS）对薄膜表面形貌及微结构进行了表征，分析了氧气之体积分数φ（O2）为40％-60％时，对薄膜表面形貌和微结构的影响。结果表明：随...
关键词：无机非金属材料 ZNO薄膜 氧气浓度 形貌 结构 
氧分压对TiO_2薄膜光学性能的影响被引量：1
《西安工业大学学报》2008年第6期511-515,共5页朱昌 刘佳 Dmitriy A. Golsov Sergey M. Zavatskiy 
外国专家局人才引进项目(20070006100056)
为得到光学性能良好、稳定的TiO2薄膜,采用离子束溅射的方法,改变氧分压,在k9玻璃上制备出不同结晶取向不同光学常数的TiO2薄膜.采用椭圆偏振光谱仪测试、拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数.薄膜通过400℃退火,利用X射线衍射仪(XRD...
关键词：离子柬溅射 氧化钛薄膜 氧分压 光学性能 
氧气浓度对ZnO薄膜光电性能的影响被引量：1
《中国科技信息》2008年第20期38-39,共2页肖慧 徐哈宁 朱昌 吴礽国 
采用磁控溅射法镀制ZnO薄膜,通过椭偏仪和四探针测试仪分析了氧气浓度对薄膜光电性能的影响。结果表明:随着氧分压的增加,薄膜折射率呈变大的趋势,电阻率升高,导电性能降低。
关键词：ZNO薄膜 磁控溅射 折射率 电阻率 
TiC薄膜的性能研究被引量：4
《真空科学与技术学报》2008年第S1期56-59,共4页邵霄 朱昌 梁海峰 
采用磁过滤直流电弧离子镀法在不同的CH4分压下制备了一系列的TiC薄膜,利用XRD和EDX表征了薄膜的相组成和微结构,用MCMS-1摩擦磨损测试仪,研究了不同CH4分压对薄膜摩擦性能的影响,采用DURAMIN-10型丹麦全自动显微硬度仪,研究不同CH4分...
关键词：TiC薄膜 脉冲真空电弧离子镀 微结构 力学性能 
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