离子束溅射

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离子束表面加工设备控制系统研究与设计
《电子工业专用设备》2024年第6期16-19,53,共5页范江华 黄一峻 周立平 周波 刘庆浩 胡坤 
通过研究离子束表面加工设备的功能要求和工艺流程,设计了一套具备全自动真空、控温、传片、镀膜、刻蚀等功能的控制系统,并详细阐述控制系统各模块的功能及设计实现。经过产线流片验证,该控制系统运行稳定,满足离子束加工设备镀膜与刻...
关键词：离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 控制系统 
离子束表面加工设备及工艺研究
《中国集成电路》2024年第9期87-91,共5页范江华 李勇 袁祖浩 龚俊 胡凡 黄也 
本文介绍了一种用于红外芯片金属化与刻蚀工艺的离子束表面加工设备。通过实验探索不同工艺角度下薄膜沉积速率与均匀性及刻蚀速率与均匀性的影响,结果表明薄膜沉积均匀性与刻蚀均匀性均优于3%。同时经过产线流片,红外芯片表面薄膜均匀...
关键词：离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 射频离子源 
基于强流离子源的离子束溅射镀膜设备均匀性优化被引量：1
《物理学报》2024年第5期325-333,共9页李桑丫 张艾霖 †徐欣 吕涛 王世康 罗箐 
国家重点研发计划课题(批准号:2022YFA1602201);国家自然科学基金青年科学基金(批准号:12105278);中国科学技术大学学生创新创业和成果转化行动计划学生创新创业基金(批准号:CY2022G07);安徽省高等学校省级质量工程项目(批准号:2021jyxm1731);中国科学院国际伙伴计划国际大科学计划培育专项项目(批准号:211134KYSB20200057);中央高校基本科研业务费资助的课题.
随着高端光学器件镀膜的发展,其多样性溅射镀膜需求对离子束流流强、均匀度和可调性提出了更高的要求.对于新一代离子束溅射镀膜机来说,如何在不同离子比、不同流强的束流下保持足够的均匀度,成为了溅射镀膜设备的一大难题.本文提出了...
关键词：溅射沉积镀膜 引出系统 自动优化 束流引出模拟 
Si基SiC薄膜物理制备工艺研究进展
《常州大学学报（自然科学版）》2024年第1期9-17,共9页苏江滨 朱秀梅 季雪梅 祁昊 潘鹏 何祖明 
江苏省自然科学基金资助项目(BK20191453);江苏省研究生科研创新计划资助项目(KYCX21_2819,KYCX21_2825)。
随着微纳电子器件集成化程度不断提高,用Si基SiC薄膜取代SiC体单晶引起了人们极大的兴趣,这种方法不仅有利于降低生产成本,还能与Si基大规模集成电路兼容。文章综述了磁控溅射、分子束外延、离子束溅射、离子注入4种物理制备Si基SiC薄...
关键词：SIC薄膜 磁控溅射 分子束外延 离子束溅射 离子注入 
离子束铣削
《工具展望》2023年第4期23-24,共2页
离子束铣削(Ion Beam milling)是一种利用离子源在基板上进行材料去除工艺的薄膜技术。Ion Beam milling是一种离子束溅射,无论是用于预清洁还是图案蚀刻,它都有助于确保出色的附着力和3D结构的精确形成,主要用于微电子制造、光学元件...
关键词：微电子制造 离子束溅射 薄膜技术 3D结构 材料科学研究 去除工艺 光学元件 离子源 
红外探测器制备中不同镀金层的对比分析
《激光与红外》2023年第10期1552-1554,共3页刘森 张磊 杨斌 李忠贺 
针对红外探测器制备过程中的多种镀金工艺展开了研究,通过对不同工艺制备的镀金层进行扫描电镜观察,发现不同的镀金工艺制备的样品存在较大的差异。电镀金层的晶粒直径为2~3μm,真空蒸发镀金的晶粒直径为100~600nm,离子束溅射镀金的晶...
关键词：IRFPA电镀 真空蒸发 离子束溅射 晶粒 
锑化铟红外探测器的三维电极成型技术
《红外》2023年第6期7-11,共5页张泽群 龚志红 李忠贺 李乾 宁提 杨刚 
锑化铟的电极因三维特性易产生侧壁断裂问题,互联的铟柱会侵入电极内部,影响锑化铟芯片的可靠性。使用离子束溅射沉积、热蒸发、磁控溅射等方法制备三维电极体系,并通过聚焦离子束(Focused Ion Beam, FIB)方法以及扫描电子显微镜(Scanni...
关键词：锑化铟 三维电极体系 热蒸发 磁控溅射 离子束溅射沉积 
离子束溅射Lan-WDM滤光膜膜厚均匀性的研究
《长春理工大学学报（自然科学版）》2023年第2期25-31,共7页齐双阳 刘冬梅 朱忠尧 张于帅 韩克旭 
吉林省重大科技攻关专项(20190302095GX)。
光通信Lan-WDM滤光膜采用离子束溅射(IBS)沉积制备时,由于膜厚分布不均匀会导致光谱中心波长的漂移,影响有效镀膜区域。分析了离子束溅射膜厚分布特点,根据Ove Lyngnes提出的膜厚均匀性修正模型,通过修正Mask挡板来改善Ta_(2)O_(5)、SiO...
关键词：薄膜 离子束溅射 膜厚均匀性 修正挡板 窄带滤光片 
基于蒙特卡罗方法的离子束溅射熔融石英、硅、金和铜行为特征规律仿真研究被引量：1
《激光与光电子学进展》2023年第7期245-252,共8页胡邦杰 张清华 刘民才 许乔 李亚国 
国家自然科学基金(62175221,51505444);中国工程物理研究院创新发展基金(CX2019025);中国工程物理研究院激光聚变研究中心青年人才基金(LFRC-PD012)。
采用蒙特卡罗方法研究了在不同溅射参数和材料模型下,溅射产额、损伤密度分布和纵向能量损伤分布等溅射特征参量对离子束溅射作用效果的影响。通过SRIM-2013软件的粒子跟踪和物理统计结果,分析了离子束初始能量、入射角度、离子种类和...
关键词：材料 蒙特卡罗方法 离子束 SRIM 溅射产额 损伤分布 能量损失 
基于离子束溅射法制备的负温度系数Mn_(1.56)Co_(0.96)Ni_(0.48)O_(4)薄膜热敏电阻被引量：1
《微纳电子技术》2022年第12期1383-1387,共5页武绍宽 邓勇生 潘婷 戚云娟 高波 薛小婷 李莹 
随着当前传感器的小型化和集成化趋势热敏薄膜材料受到广泛关注。为制备电阻率低、温度性能稳定的负温度系数(NTC)热敏电阻,以Mn_(1.56)Co_(0.96)Ni_(0.48)O_(4)为研究对象,通过离子束溅射法在硅晶圆上制备热敏电阻薄膜,使用真空退火炉...
关键词：热敏电阻 负温度系数(NTC) 离子束溅射 Mn_(1.56)Co_(0.96)Ni_(0.48)O_(4)薄膜 热敏薄膜 
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