黄小刚

作品数：6被引量：19H指数：3
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供职机构：中国科学院空间科学与应用研究中心更多>>
发文主题：光学镀膜离子束辅助镀膜离子源等离子体加速离子束更多>>
发文领域：理学一般工业技术核科学技术电子电信更多>>
发文期刊：《真空科学与技术学报》《真空》《光学仪器》《微细加工技术》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
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用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计被引量：7
《真空科学与技术学报》2004年第6期451-454,共4页尤大伟 黄小刚 任荆学 李安杰 
采用射频宽束离子源进行离子束辅助镀膜可以获得高性能的光学薄膜 ,已越来越得到人们的共识。本文对射频感应线圈的匹配、起弧及三栅离子光学的关键技术进行了重点考虑 ,并获得了稳定运行的高性能离子源。
关键词：宽束 离子源 薄膜制备 光学薄膜 离子束 感应线圈 匹配 射频 镀膜 高性能 
关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题被引量：4
《真空科学与技术学报》2004年第4期279-282,共4页尤大伟 任荆学 黄小刚 武建军 
本文目的在于改进霍尔源的设计 ,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。
关键词：光学镀膜 离子束辅助镀膜 等离子体加速器 霍尔离子源 
走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源被引量：4
《核技术》2002年第9期679-683,共5页尤大伟 李安杰 江建国 武建军 黄小刚 
论述了霍尔等离子体源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。本设计采用永久磁铁并利用极靴产生发散磁场 ,及沿轴向有较大梯度的磁场 。
关键词：光学工业 霍尔等离子体源 光学镀膜 离子束辅助镀膜 工作原理 霍尔电流加速器 
用于辅助镀膜的霍尔等离子体源被引量：5
《光学仪器》2001年第5期58-62,共5页尤大伟 黄小刚 武建军 
论述了该源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁 ,沿轴向有较大梯度的磁场 ,又称该源为端部霍尔加速器。
关键词：光学镀膜 离子束辅助镀膜 等离子体加速 
镀膜参数对离子束增强沉积氮化硼薄膜中立方相含量的影响被引量：1
《真空》1997年第6期5-9,共5页况园珠 黄小刚 尢大纬 王兴民 林文廉 
国家自然科学基金
本文介绍用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）法在硅片上制备氮化硼（ＢＮ）薄膜及镀膜参数对膜中立方氮化硼（ｃ－ＢＮ）含量的影响的试验研究，主要研究轰击离子束密、镀膜速率、轰击束中氩气的含量及衬底温度的影响。用红外（ＩＲ）谱对膜...
关键词：立方氮化硼 离子束增强沉积 轰击离子束密 
辅助沉积线状(3×20cm)离子源设计
《微细加工技术》1993年第3期39-42,共4页尤大纬 李安杰 黄小刚 
线状离子源适合于大面积材料的连续溅射改性过程。多极场设计技术在3×20cm线状离子源的放电室中有很好的应用。
关键词：线状离子源 多极场设计 溅射 镀膜 
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