光学镀膜用大束密均匀区离子源  

An ion source with good beam current density uniformity for optical films deposition

作　　者：况园珠[1] 郑保民[1] 李安杰[1] 

机构地区：[1]中国科学院空间科学与应用研究中心,北京100080

出　　处：《光学仪器》2001年第5期53-57,共5页Optical Instruments

摘　　要：介绍一个适用于光学镀膜用的直径为1 2 0 mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数 。This paper introduces the structure design and performance parameters of a 120mm ion source with good beam current uniformity for optical films deposition.The factors effecting the uniformity of beam current density are discussed.

关 键 词：离子源 束流密度 均匀性 光学薄膜 离子束辅助镀膜 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理] TB43[理学—物理]