Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究  

Vacuum Ultraviolet Reflection of Gold-Coated Silicon Mirror

作　　者：干蜀毅[1] 徐向东[1] 洪义麟[1] 刘颍[1] 周洪军[1] 霍同林[1] 付绍军[1] 

机构地区：[1]中国科技大学国家同步辐射实验室

出　　处：《真空科学与技术学报》2008年第1期51-54,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

摘　　要：对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究。采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜。利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:Si片上Au膜厚度和辅助离子源的使用方式对Au膜反射率有重大影响,而镀前基片表面清洗工艺等对反射率影响不显著。采用辅助离子沉积或镀前离子清洗,可提高Au膜反射率;但离子清洗和辅助离子沉积同时使用会给反射率带来显著的不利影响。膜厚在30 nm左右,55°入射角时反射率最高,可高达40%。The mirror was fabricated with gold film grown by ion beam sputtering on Si substrate. Its reflection characteristics in vacuum uhraviolet（VUV） wavelength range from 115 um to 140 urn,were studied.The influence of various film growth conditions on the reflectance was also evaluated. The results show that Au film thickness significantly affects the reflectance. For example,a 30 nm thick gold film has the highest reflectance of 40% at an incident angle of 55°.

关 键 词：真空紫外反射镜 真空紫外反射膜 真空紫外反射率 Au膜 Si基片 离子束溅射 

分 类 号：TB133[机械工程—光学工程]