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作 者:周凯明 李江[1] 李乙钢[1] 郭儒[1] 张光寅[1] 潘士宏[1] 李瑞钢[2] 朱战平[2] 梁基本[2]
机构地区:[1]南开大学物理系,天津300071 [2]中国科学院半导体研究所,北京100083
出 处:《Journal of Semiconductors》1997年第9期654-659,共6页半导体学报(英文版)
基 金:国家自然科学基金
摘 要:本文研究了低温生长分子束外延GaAs薄膜的光电子性质.我们测量了它的I-V特性;用电调制透射谱测量了电吸收和电折变,并由此分析了它的带边共振吸收平方电光效应;用二波混合的方法测量了它的光折变性质.对两种方法得到的电吸收和电折变作了分析比较.The photo-electronic properties of a low temperature-growth molecular beam epitaxy GaAs film have been studied. We have measured the I-V characteristic, electroabsorption and electrorefraction by use of electrotransmittance, and analyzed the band edge quadratic electro-optical effect. We have also measured the photorefractive properties by two waves mixing. The results obtained from the two methods have been compared and discussed.
分 类 号:TN304.23[电子电信—物理电子学]
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