荷兰设备商Mapper获欧盟350万欧元资助 开发无掩膜光刻技术  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第3期26-26,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：EE Times日前报道：IBM、Rohm＆Haas电子材料部日前签署了一项共同开发协议，针对目前光刻技术的主要问题，为32nm及以下节点设计开发新型抗反射材料。双方计划开发全新248nm和193nm波长材料，包括底部抗反射涂层（BARC）和顶端抗发射涂层（TARC）。

关 键 词：光刻技术 MAPPER 开发 设备商 抗反射涂层 资助 欧盟 荷兰 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] S771.8[农业科学—森林工程]