纳米压印光刻在CMOS HDD中的快速发展  

作　　者：Alexander E. Braun 

出　　处：《集成电路应用》2008年第3期56-57,共2页Application of IC

摘　　要：据Molecular Imprints公司的首席执行官Mark Melliar-Smith所言,纳米压印技术明年将稳步跨入硬盘制造舞台,在几年之后达到CMOS高密度存储器工艺的极限。Molecular Imprints公司是一家压印工具的开发商和制造商。

关 键 词：纳米压印光刻 CMOS HDD 纳米压印技术 ts公司 首席执行官 MARK 制造商 

分 类 号：TN305.93[电子电信—物理电子学] TN432