磁盘预光刻伺服图形离子刻蚀分析  

作　　者：罗敢[1] 张彪[1] 库少平 

机构地区：[1]华中理工大学

出　　处：《磁记录材料》1997年第1期2-4,共3页Magnetic Recording Materiais

摘　　要：用离子溅射对磁盘预光刻的何服图形进行干法刻蚀，得到了微米级和亚微米级凹坑的勾槽图形，这对超高记录密度磁盘驱动器的研究具有重要意义。

关 键 词：磁盘 光刻 伺服图形 离子刻蚀 磁记录 

分 类 号：TQ587.2[化学工程—精细化工]