检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
出 处:《集成电路应用》2008年第5期16-16,共1页Application of IC
摘 要:前身徕卡微系统的Vistec半导体系统公司目前供应宏观缺陷检测、缺陷评估与分类工具、光掩膜量测,以及电子束直写与光掩膜制作系统。 Vistect半导体系统事业部产品经理Andreas Machura表示,浸没式光刻技术的应用给工艺控制带来了新的挑战,浸没液体可能将如晶圆边缘和倾角非关键缺陷带到晶圆正面,造成致命缺陷,因此需要早期鉴定并分类这些缺陷。
关 键 词:半导体市场 中国 缺陷检测 导体系统 电子束直写 缺陷评估 制作系统 工艺控制
分 类 号:TN407[电子电信—微电子学与固体电子学] F407.635[经济管理—产业经济]
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