凸版印刷与IBM合作开发22纳米光掩膜  

出　　处：《集成电路应用》2008年第8期15-15,共1页Application of IC

摘　　要：来自上海凸版（Toppan）光掩膜有限公司消息，日本凸版印刷株式会社近日宣布，已与IBM签署新的开发合约，它涵盖了后期的32纳米和全部22纳米光掩膜工艺开发。该项联合开发于2008年6月开始，在IBM的英国艾塞克斯郡的柏灵敦工厂进行。在此之前，凸版印刷与IBM在2005年已开始了45纳米光掩膜工艺的开发，并且在2007年延伸到了32纳米掩膜开发。

关 键 词：凸版印刷株式会社 合作开发 32纳米 IBM 掩膜 工艺开发 膜工艺 

分 类 号：TN402[电子电信—微电子学与固体电子学] TS853.6[轻工技术与工程]