GaN 用衬底材料 LiGaO_2 晶体超精密抛光的初步实验  

The Primary Study of Superpolishing of LiGaO 2 Single Crystal for a Substrate of GaN Thin Film

作　　者：谢伦[1] 高宏刚[1] 陈斌[1] 曹健林[1] 王建明[2] 刘琳[2] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械研究所 [2]中国科学院物理研究所

出　　处：《光学精密工程》1997年第5期57-62,共6页Optics and Precision Engineering

摘　　要：主要介绍了作为发光半导体ＧａＮ衬底材料的ＬｉＧａＯ２单晶超精密抛光方法及初步结果。利用聚氨酯抛光盘配合ＳｉＯ２悬浮液，采用机械化学抛光方法，已加工出表面粗糙度优于０．１ｍｍ，的超光滑表面。This paper represents a method and primary experimental results of superpolishing of LiGaO 2 signle crystal as a substrate for GaN.We have achieved supersmooth surface roughness of less than 0.1nm by the chemo mechanical polishing with polyurethane lap and SiO 2 solution.

关 键 词：超精密抛光 表面粗糙度 LiGaO2 晶体 氮化镓 

分 类 号：TN305.1[电子电信—物理电子学]