磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜  

Preparation of nano-microcrystalline NiO_x films by magnetron sputtering and cooling substrates

作　　者：王怀义[1,2] 刁训刚[1] 王武育[3] 杨海刚[1] 丁芃[1] 郝维昌[1] 王天民[1] 

机构地区：[1]北京航空航天大学理学院凝聚态与材料物理研究中心,北京100083 [2]北京印刷学院基础部,北京102500 [3]北京有色金属研究总院,北京100088

出　　处：《功能材料》2008年第10期1618-1621,共4页Journal of Functional Materials

基　　金：国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2007CB936300)

摘　　要：利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节。In this paper,it is introduced that using a cooling apparatus based on liquid nitrogen,we have prepared NiOx films with nano-microcrystalline structure by reactive magnetron sputtering. X-ray diffiration（XRD） and Images of scanning electron microscope（SEM）demonstrate that when we employ equal sputtering parameters, using this method,we can effectively regulate or control grain size of NiOx films with nano-microcrystalline structure.

关 键 词：磁控溅射 纳米微晶 NiOx薄膜 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]