离轴照明下依赖于入射角度的矢量霍普金斯公式  

Vectorial Hopkins formulation depending on angles of off-axis illumination

作　　者：曹鹏飞[1] 程琳[1] 张晓萍[1] 

机构地区：[1]兰州大学信息科学与工程学院,兰州730000

出　　处：《物理学报》2008年第11期6946-6954,共9页Acta Physica Sinica

基　　金：教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NECT-04-0981)资助的课题~~

摘　　要：应用矢量电磁场理论和波导模型推导出离轴照明下的矢量霍普金斯公式,与传统的标量霍普金斯公式不同之处在于引入了入射角及入射方位角.通过仿真实际投影光刻工艺下三维掩模的成像效果,分析了最佳入射角范围,讨论了离轴照明时入射角对最终成像质量的影响.Basing on vector electromagnetic theory and the waveguide model,the vectorial Hopkins formula is deduced.It containes incidence angle and azimuth angle of off-axis illumination,which is different from the traditional scalar Hopkins formula.By simulating the aerial image of the three dimensional mask in actual lithography process,the optimal angular range of oblique incidence is analyzed,and the impact of oblique incidence angle on imaging quality is also discussed.

关 键 词：光学光刻 矢量霍普金斯公式 矢量电磁场理论 离轴照明 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TP333.4[自动化与计算机技术—计算机系统结构]