光学干涉位相移动法评价压电陶瓷响应曲线  

作　　者：张新阳[1] 夏莉艳[1] 周恒为[1] 

机构地区：[1]伊犁师范学院物理与电子信息学院,新疆伊宁835000

出　　处：《伊犁师范学院学报（自然科学版）》2009年第1期25-29,共5页Journal of Yili Normal University：Natural Science Edition

基　　金：2008年与日本筑波大学古田贝.伊藤实验室联合研究项目.

摘　　要：压电陶瓷是具有压电效应的一种功能陶瓷,其随电压的微位移形变精度很高,在微技术领域应用广泛,响应曲线是评价压电陶瓷性能的主要指标.利用光学干涉的手段获得形变干涉图样,采用位相移动的方法从图样中解析出形变大小,从而获得压电陶瓷的实际响应曲线.

关 键 词：干涉 位相移动法 响应曲线 微位移 

分 类 号：O439[机械工程—光学工程]