光刻技术能否突破极限?  

作　　者：天易 

出　　处：《中国军转民》2001年第12期39-40,共2页

摘　　要：芯片制造业巨头联手攻关 国家实险室担任主角 半导体制造厂商目前在光学光刻技术能力上都在逼近极限,很多厂商争相探寻下一代光刻技术(NGL)系统。由于电子设备业今后健康发展和生命力的关键就在于下一代光刻技术,所以工业上用于研制NGL的耗费很大。总之,要使莫尔定律继续有效。

关 键 词：光学光刻技术 下一代光刻技术 极限 国家实验室 光致抗蚀剂 远紫外光源 半导体工业 芯片制造业 反射光栅 半导体制造 

分 类 号：F49[经济管理—产业经济]