氧化锌薄膜的制备技术  

作　　者：李勇[1] 马书懿[1] 李锡森[1] 蔡利霞[1] 

机构地区：[1]西北师范大学物理与电子工程学院,甘肃兰州730070

出　　处：《甘肃科技》2009年第6期72-73,共2页Gansu Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目(10874140);甘肃省自然科学基金资助项目(0710RJ2A105)

摘　　要：介绍了氧化锌薄膜的制备方法,主要有物理和化学两种方法。物理方法有:分子束外延法(MBE),脉冲激光溅射沉积法(PLD)以及磁控溅射法;化学方法有:溶液镀膜法和各种化学气相淀积(CVD)。重点讨论了磁控溅射法的优缺点及展望。

关 键 词：脉冲激光沉积 化学气相淀积 磁控溅射法 

分 类 号：O472.3[理学—半导体物理]