DSW光刻机中的最短时间自动对准系统  

The Time-optimal Auto-alignment System in DSW Photolithographic Process

作　　者：王文平[1] 刘永强[1] 罗培成 王彦池[1] 

机构地区：[1]河北机电学院自动化系

出　　处：《河北工业科技》1989年第1期29-33,共5页Hebei Journal of Industrial Science and Technology

摘　　要：本文研究了最短时问控制系统在 DSW 光刻机自动对准系统中的应用问题。研究结果表明,这种控制系统能很好地满足系统的性能指标,其对准时间很短,t_s≤0.14秒,并且具有较高的对准精度,σ≤0.01μm(微米)Application of time-optimal auto-alignment system in DSW photolithog- raphic process is investigated in this paper.The results show that the system possess a good performance. Its alignment time is smaller than ts=0.14 second,and its alignment accuracy is superior to σ=0.01μm.

关 键 词：自动对准系统 最短时间控制 动态规划 

分 类 号：F427.22[经济管理—产业经济] F424.3