基于光场分布的光学邻近效应校正  

OPTICAL PROXIMITY CORRECTION BASED ON OPTICAL FIELD DISTRIBUTION

作　　者：杜惊雷[1] 黄晓阳[1] 黄奇忠 郭永康 

机构地区：[1]四川大学物理系

出　　处：《微细加工技术》1998年第1期7-10,共4页Microfabrication Technology

摘　　要：本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。In this paper, based on the thought of improving optical field distribution, we improve successfully optical field distribution on image with adding some ap- posite scattering bars and anti-scattering bars in the mask and realize optical proximity correction.

关 键 词：光学邻近效应 校正 散射 光场分布 

分 类 号：O436[机械工程—光学工程] TN305.7[理学—光学]