黄晓阳

作品数：4被引量：9H指数：2
导出分析报告
供职机构：四川大学物理科学与技术学院物理学系更多>>
发文主题：光学邻近效应光学邻近效应校正散射部分相干计算机模拟研究更多>>
发文领域：电子电信理学机械工程更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《激光技术》《应用激光》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金国家教育部博士点基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-4
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
畸变的掩模对光刻图形质量的影响被引量：2
《激光技术》2002年第1期20-22,共3页杜惊雷 曾阳素 黄晓阳 粟敬钦 郭永康 崔铮 
微细加工光学技术国家重点实验室基金;国家自然科学基金;博士点基金资助项目
基于描述激光直写邻近效应的双高斯函数之差抗蚀剂模型 ,计算分析了邻近效应带来的掩模加工的偏差 ,及其对光刻图形质量的影响。模拟结果表明 ,当掩模的特征尺寸为 1.5 μm时 ,激光直写所加工掩模的相对面积偏差达 5 % 。
关键词：激光直写 邻近效应 分辨力 抗蚀剂模型 畸变 掩模 光刻图形 质量 
基于光场分布的光学邻近效应校正被引量：2
《微细加工技术》1998年第1期7-10,共4页杜惊雷 黄晓阳 黄奇忠 郭永康 
本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。
关键词：光学邻近效应 校正 散射 光场分布 
光学邻近效应的计算机模拟研究
《微细加工技术》1998年第1期11-18,共8页黄晓阳 杜惊雷 郭永康 孙国良 
国家自然科学基金;光电所微细加工光学技术国家重点实验室基金
本文以部分相干光的衍射理论为基础，分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响，讨论了光学邻近效应产生的物理机理，确定了其有效作用范围，为研究光学邻近效应校正打下了基础。
关键词：部分相干 光学邻近效应 计算机模拟 
光学邻近效应校正的新方法被引量：5
《应用激光》1997年第6期244-246,243,共4页杜惊雷 黄奇忠 黄晓阳 郭永康 崔铮 
国家自然科学基金;中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室的资助
基于波前加工的观点，从调整像面光强分布出发，提出一种在掩模上添加亚分辨的亮暗衬线校正光学邻近效应的新方法，并详细讨论了添加这种亮暗衬线的规则及所获得的结果。
关键词：光学邻近效应 校正 OPE 光刻技术 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部