光学邻近效应校正的新方法  

A New Method for Optical Proximity Correction

作　　者：杜惊雷[1] 黄奇忠[1] 黄晓阳[1] 郭永康[1] 崔铮 

机构地区：[1]四川大学物理系,四川成都610064 [2]英国卢瑟福实验室

出　　处：《应用激光》1997年第6期244-246,243,共4页Applied Laser

基　　金：国家自然科学基金;中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室的资助

摘　　要：基于波前加工的观点，从调整像面光强分布出发，提出一种在掩模上添加亚分辨的亮暗衬线校正光学邻近效应的新方法，并详细讨论了添加这种亮暗衬线的规则及所获得的结果。Base on the view of wavefront engineering for photolithography and the thought of improving optical field distribution, we present a new OPC method with adding subresolution bright and dark serifs in the mask. We discuss the rule of adding the serifs in detail, and get a satisfied correction result.

关 键 词：光学邻近效应 校正 OPE 光刻技术 

分 类 号：O438[机械工程—光学工程] TN305.7[理学—光学]