国外光刻胶及助剂的发展趋势  

作　　者：王雪珍[1] 

机构地区：[1]中国化工信息中心

出　　处：《精细与专用化学品》2009年第9期12-14,共3页Fine and Specialty Chemicals

摘　　要：光刻是半导体产业常用的工艺．借助光刻胶可将印在光掩膜上的图形结构转移到硅片表面上。光掩膜制备也是一个光刻过程，不过其所用化学品不同。

关 键 词：光刻胶 发展趋势 助剂 国外 半导体产业 硅片表面 图形结构 膜制备 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]