硅片表面

作品数:68被引量:165H指数:6
导出分析报告
相关领域:电子电信更多>>
相关作者:王栩生杨德仁邹帅邢国强陆川更多>>
相关机构:苏州阿特斯阳光电力科技有限公司中国科学院常州天合光能有限公司上海华力微电子有限公司更多>>
相关期刊:更多>>
相关基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点实验室开放基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
-

检索结果分析

结果分析中...
条 记 录,以下是1-10
视图:
排序:
硅片表面线痕测试方法的研究与实现
《中国新技术新产品》2024年第21期55-57,共3页尹昊 
通过搭建测试系统,对硅片线痕进行测试,分别采用移动平均法和高斯分布平均法进行处理,对比分析2种方法的效果。试验结果显示,与移动平均法相比,高斯分布平均法噪声消除以及平滑能力提高,具有明显优势。高斯分布平均法更适合用于硅片线...
关键词:移动平均法 高斯分布平均法 线痕 
酸腐蚀工艺对硅片表面粗糙度的影响
《电子工业专用设备》2024年第2期39-41,70,共4页于妍 康洪亮 张贺强 田原 
为了缩减工艺成本,提高硅片表面光泽度,降低表面粗糙度,降低表面金属含量,提高生产效率,对HNO_(3)∶HF∶CH_(3)COOH混合酸体系的反应机理进行了分析,通过改变酸腐蚀去除量,腐蚀液温度等工艺参数可有效控制超薄硅片腐蚀反应速度,降低表...
关键词:单晶硅片 酸腐蚀 粗糙度 
化工标准化动态
《化工生产与技术》2023年第3期47-48,共2页吴世清 
2022年1月以来实施的含硅系列标准(二)18)GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试光学反射法》。规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度,也...
关键词:多晶硅薄膜 二氧化硅薄膜 化工标准化 光学反射 薄膜厚度 GB/T 硅片表面 半透明 
外延硅片表面时间雾的形成及其机理
《中国表面工程》2022年第6期266-273,共8页李慎重 梁兴勃 田达晰 马向阳 杨德仁 
浙江省重点研发计划(2020C01009);国家自然科学基金(51532007,61674126)资助项目。
外延片生产中有时会遇到外延硅片在洁净室中暴露--段时间后产生雾状宏观缺陷(即所谓的时间雾)的不利情形,然而关于外延硅片表面时间雾的成因目前尚不清楚。通过探究常压化学气相外延工艺生长的外延硅片表面时间雾的形成条件,发现外延硅...
关键词:外延硅片 时间雾 无机组分 有机组分 
单晶硅片表面金字塔尺寸对太阳电池电性能的影响被引量:2
《太阳能》2022年第9期65-69,共5页郭望东 赵环 张绳亮 晏海刚 王少颖 李守卫 
针对单晶硅片表面金字塔绒面对太阳电池电性能的影响,对比3款制绒添加剂A、B、C对金字塔绒面尺寸、均匀性、出绒率、比表面积及反射率的差异,分析了不同绒面结构对太阳电池的光电转换效率和漏电流的影响。分析结果表明:金字塔大小均匀...
关键词:单晶硅太阳电池 制绒 添加剂 金字塔 漏电流 
单晶硅片表面微纳复合结构制备及光特性研究被引量:1
《太阳能学报》2021年第11期1-4,共4页刘勇武 杜俊霖 吴卓鹏 孟凡英 
中科院先导专项A(XDA17020403);上海张江创新发展基金(ZJ2018-ZD-010);上海市科委项目(17AZ1201100)。
采用金属辅助化学刻蚀方法(MACE),在常规碱溶液制备的金字塔表面制备表面形貌良好、反射率低的硅纳米线微结构。详细探究Ag辅助刻蚀的反应过程和反应机理,基于FDTD Solutions仿真软件模拟分析,微米金字塔-纳米线复合结构在减少宽波段和...
关键词:太阳电池 单晶硅片 湿法刻蚀 纳米线 金属催化刻蚀 反射率 
金纳米短棒垂直自组装薄膜的制备、表征及SERS效应
《化工新型材料》2021年第10期100-104,共5页龙世佳 司长代 马莉 王璐 赵天宇 安子博 胡雯霞 
甘肃省“十三五”规划课题(GS[2019]GHB2091);天水市科技计划项目(2021-FZJHK-6203);天水师范学院教研项目(TS2019JY19);天水师范学院课程思政教学团队项目(TS2020JY31);天水师范学院创新基金项目(CXJ2020-23);天水师范学院研究生课程建设项目(TKXM2005)。
通过调整硅表面所修饰巯基的密度来控制吸附金种子的密度,利用种子周边相邻的材料控制其生长方向,直接在硅表面生长垂直金纳米棒自组装薄膜。用原子力显微镜对自组装薄膜的形貌进行表征,并检测薄膜对罗丹明R6G的表面增强拉曼光谱(SERS)...
关键词:限域生长法 垂直自组装薄膜 金纳米棒 硅片表面 
多晶硅片表面金属催化化学腐蚀法制绒研究现状
《中文科技期刊数据库(引文版)工程技术》2021年第7期332-332,共1页钟峥 
在多晶硅太阳能电池的生产过程中,金刚石线切割技术具有切割速度快、精度高、原材料损耗少等优点。金刚石线切割在硅表面形成的损伤层较浅,与传统的酸蚀工艺不相匹配。金属催化化学刻蚀具有操作简单、结构可控、易于形成高深宽比绒面革...
关键词:金刚线切割 多晶硅 金属催化化学腐蚀法 制绒 综述 
硅片表面纳米颗粒剥离及其成分检测方法研究
《物理学报》2020年第16期158-165,共8页刘立拓 王春龙 余晓娅 石俊凯 黎尧 陈晓梅 周维虎 
国家自然科学基金(批准号:61404171);国家重点研发计划(批准号:2019YFB2005600)资助的课题。
硅片表面纳米级污染颗粒的检测与去除是集成电路制造(Integrated Circuit,IC)的关键环节.本文主要对纳秒级脉冲激光作用至硅片表面后纳米颗粒的动力学过程及颗粒成分在线检测方法进行了研究.搭建了双脉冲激光测量实验系统,并通过实验对3...
关键词:纳米颗粒运动模型 激光诱导击穿光谱 激光清洗机理 成分检测 
窄间隙介质阻挡放电清除硅片表面颗粒污染物被引量:2
《微纳电子技术》2020年第5期409-414,420,共7页何叶 袁慧 冷白羽 杨波 白敏菂 
国家自然科学基金资助项目(61671100,61371027)。
硅片清洗技术已成为制备高技术电子产品的关键技术。采用窄间隙介质阻挡放电方法研制了低温氧等离子体源,把氧离解、电离、离解电离成O、O-、O+和O2(a1Δg)等低温氧等离子体,其中O-和O2(a1Δg)活性粒子进一步反应形成高质量浓度臭氧气体...
关键词:窄间隙介质阻挡放电 硅(Si) 臭氧超净水 清洗 颗粒污染物 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部