多晶硅薄膜

作品数:429被引量:673H指数:14
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硅片预清洗处理对LPCVD多晶硅薄膜生长的影响分析
《集成电路应用》2024年第4期48-49,共2页郭国超 姜波 
阐述不同预清洗条件下,晶片表面化学键状态的变化对LPCVD多晶硅沉积速率和晶粒大小的影响,通过实验优化预清洗条件,实现颗粒数降低,同时保持多晶硅薄膜的晶粒大小和沉积速率的稳定。
关键词:集成电路制造 LPCVD 多晶硅薄膜 预清洗 
化工标准化动态
《化工生产与技术》2023年第3期47-48,共2页吴世清 
2022年1月以来实施的含硅系列标准(二)18)GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试光学反射法》。规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度,也...
关键词:多晶硅薄膜 二氧化硅薄膜 化工标准化 光学反射 薄膜厚度 GB/T 硅片表面 半透明 
重掺杂多晶硅薄膜中磷氧化物的探究
《物理学报》2022年第18期356-362,共7页王艺琳 兰自轩 杜汇伟 赵磊 马忠权 
国家自然科学基金(批准号:61874070,61674099,61274067);上海大学索朗光伏材料与器件R&D联合实验室基金(批准号:SS-E0700601)资助的课题。
在n-型隧穿氧化物钝化接触(n-TOPCon)光伏器件中,高浓度磷掺杂的多晶硅薄膜(n^(+)poly-Si)是电子选择性钝化的关键材料.它的光学和电子学性能取决于化学组态与多晶结构的物相,并依赖于晶态转化过程中的高温退火与结构弛豫.采用低压化学...
关键词:多晶硅(n^(+)) 磷氧化物 硅氧化物 光电子谱 深度刻蚀分析 
高温沉积多晶硅薄膜光伏电池研究进展
《化工设计通讯》2022年第8期47-49,共3页路爽 张一凡 
高温沉积方法制备多晶硅薄膜太阳电池具有电池效率高、制备成本低等优势,在光伏太阳能电池领域具有良好的发展前景。介绍了不同材料衬底制备高温沉积法制备多晶硅太阳能光伏薄膜的方法,介绍了多晶硅薄膜太阳能电池的基本特点和制备工艺...
关键词:多晶硅薄膜 光伏电池 效率 进展 
LPCVD制备多晶硅薄膜的性能被引量:2
《半导体技术》2022年第8期630-635,共6页马红娜 李锋 赵学玲 史金超 张伟 
国家重点研发计划资助项目(2018YFB1500500);河北省重点研发计划资助项目(20314303D);河北省科技计划项目(21374001D)。
对低压化学气相沉积(LPCVD)制备多晶硅薄膜的生长工艺与钝化性能进行研究,重点分析了沉积温度、硅烷体积流量和沉积时间对薄膜生长和钝化性能的影响。在590~635℃沉积温度内,多晶硅薄膜生长速率与沉积温度近似呈线性关系,钝化性能随着...
关键词:低压化学气相沉积(LPCVD) 多晶硅薄膜 生长工艺 钝化性能 生长速率 
氢原子在Cat-CVD法制备多晶硅薄膜中的作用研究
《中国科技期刊数据库 工业A》2022年第1期253-256,共4页付学群 
选取金属钨作为催化热丝,利用催化化学气相沉积(Cat-CVD)法制备多晶硅(p-Si)薄膜,探讨氢气稀释率[FR(H2)/FR(H2)+FR(SiH4)]对p-Si薄膜制备情况形成的影响。通过XRD与喇曼光谱分析,发现(111)面取向的喇曼频移对应的是520㎝-1多晶硅峰的强...
关键词:催化化学气相沉积 多晶硅薄膜 氢原子 作用分析 
铝诱导法制备多晶硅薄膜的膜层间结合力影响机制
《表面技术》2021年第7期172-178,202,共8页段永利 臧浩天 邓文宇 齐丽君 杜广煜 谢元华 刘坤 
2019年辽宁省科技重大专项项目(2019JH1/10100016);2019年度沈阳市高层次人才创新创业团队项目(2019-SYRCCX-D-01);辽宁省“兴辽英才”计划资助项目(XLYC1807072)。
目的分析铝诱导法制备多晶硅薄膜层间结合力大小的影响机制。方法采用磁控溅射分别制备Al/α-Si复合薄膜以及Al_(2)O_(3)/α-Si复合薄膜,使用划痕仪获取两样品膜层结合力,并进行对比。采用第一性原理计算,从原子间作用力的微观角度,分...
关键词:多晶硅 铝诱导 膜层结合力 第一性原理计算 吸附点位 态密度 
硅基薄膜太阳能电池发展现状被引量:2
《科技创新与应用》2020年第34期53-54,56,共3页柴甜甜 
众所周知,能源驱动城市发展,然而随着传统能源日渐枯竭以及全球环境污染逐日加剧,人类迫切需要寻找新型可再生能源以驱动城市发展。因此,发展可再生能源已成为我国能源结构转型和缓解气候恶化的关键途径。科学研究表明,太阳能发电是一...
关键词:太阳能电池 多晶硅薄膜 非晶硅薄膜 微晶硅薄膜 
硅烷流量对热丝CVD制备多晶硅薄膜的结构及性质影响
《内蒙古工业大学学报(自然科学版)》2020年第1期15-22,共8页田燕赛 周炳卿 张林睿 
国家自然科学基金项目(51262022,21663018)。
采用热丝化学气相沉积法(HWCVD),以高纯SiH 4、H 2作为反应气源,N型(100)的单晶硅片和Corning 7059玻璃片作为衬底来制备多晶硅薄膜材料.在优化了其它沉积参数条件下,研究硅烷流量对多晶硅薄膜的结构及性质的影响.通过X射线衍射谱(XRD)...
关键词:热丝化学气相沉积法 多晶硅薄膜 硅烷流量 
一种补偿阈值电压和迁移率变化的像素电路设计
《智能计算机与应用》2019年第5期13-16,24,共5页黄勇 关肖飞 张立文 李月华 王新林 何红宇 
超快微纳技术与激光先进制造湖南省重点实验室(2018TP1041)支持;湖南省自然科学基金(2019JJ40246);衡阳市科技局科学研究项目(2016KG75);湖南省研究生科研创新项目资助(CX20190735)
本文通过对数据输入阶段的时序进行调整,改进了一种适用于低温多晶硅薄膜晶体管的电压编程型像素电路,用来得到稳定的驱动电流。该像素电路由4个开关薄膜晶体管,1个驱动薄膜晶体管,2个电容和2条控制线组成。理论分析表明,该电路不仅能...
关键词:像素电路 多晶硅薄膜晶体管 阈值电压 迁移率 
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