光学光刻——向21世纪挺进  

出　　处：《电子工业专用设备》1998年第2期1-5,共5页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：光学光刻———向２１世纪挺进本刊编辑部当前的ＩＣ工业，正在沿着美国半导体工业协会（ＳＩＡ）制订的半导体技术发展蓝图并遵循摩尔定律向前发展。以存储器为代表的ＩＣ技术，已步入了０３５μｍ线宽的６４Ｍ器件批生产阶段；０２５μｍ线宽的２５６ＭＤＲＡＭ的制...

关 键 词：半导体器件 光学光刻 IC 集成电路 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TN405.7