纳米Si-SiO_x薄膜的发光  

Photoluminescence from Si Nanocrystals in SiO_x Thin Films

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作  者:邓晓清[1] 张仕国[1] 樊瑞新[1] 

机构地区:[1]浙江大学

出  处:《材料科学与工程》1998年第2期24-26,共3页Materials Science and Engineering

摘  要:本文阐述了纳米硅-氧化硅光致发光的意义和机理,还分别介绍了目前各种用于制备纳米硅-氧化硅的方法和研究现状,最后讨论了今后的发展趋势。The paper reviews the significance,the mechanism of photoluminescence,the techniques to prepare Si nanocrystals in SiO_x thin films.The future development is also discussed.

关 键 词:发光  氧化硅 薄膜 纳米级 

分 类 号:O484.41[理学—固体物理]

 

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