ASML展示一体化光刻解决方案助摩尔定律延续  

出　　处：《电子工业专用设备》2009年第7期76-77,共2页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：ASML集团公司（ASML Holding NV）在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备,让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸。FlexRay（可编程照明技术）和BaseLiner（反馈式调控机制）为ASML一体化光刻技术（holistic lithography）的一部分，具有高稳定性，能够优化和稳定制造工艺。

关 键 词：光刻设备 一体化 摩尔定律 SEMICON 高稳定性 芯片制造商 集团公司 器件尺寸 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TP332[自动化与计算机技术—计算机系统结构]