X荧光光谱在溅射工艺研究中的应用  

Application of X-ray fluorescence spectra in the sputtering process research

作　　者：董彦辉[1] 李光平[1] 郑庆瑜[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津300192

出　　处：《现代仪器》2009年第4期13-14,共2页Modern Instruments

摘　　要：本文结合X荧光光谱讨论半导体材料镍欧姆接触电极的溅射工艺,形成的工艺流程短、效率高,方便获得更好的欧姆接触。This article discusses the semiconductor ohmic contact material nickel electrode sputtering process by the use of X fluorescence spectrometry, the process to form a short, high efficiency, easy access to a better ohmic contact.

关 键 词：X荧光光谱 镍电极 溅射工艺 

分 类 号：O657.31[理学—分析化学] TP333.3[理学—化学]