PJFET与双极兼容工艺技术研究  被引量:2

Study on PJFET-Bipolar Compatible Process Technology

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作  者:税国华[1] 唐昭焕[1] 刘勇[1,2] 欧宏旗[1,2] 杨永晖[1,2] 王学毅[1] 黄磊[1] 

机构地区:[1]中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆400060 [2]模拟集成电路国家级重点实验室,重庆400060

出  处:《微电子学》2009年第4期571-574,共4页Microelectronics

摘  要:通过对PJFET与双极兼容工艺技术的研究,解决了PJFET和双极兼容工艺中的技术难点,得到了IDSS=150-350μA(W/L=10:1)、Vp=0.8~1.2V、IGSS=10^-12~10^-11 A的高性能PJFET和β=100-250、BVCEO≥36V、Ua≥100V的NPN管。采用该技术,成功研制出一种偏置电流小于100pA的高精密双极结型场效应晶体管(BJFET)集成运算放大器,获得了良好的效果。An investigation was made on PJFET-bipolar compatible process technology, and solutions to technical problems associated with the compatible process were found. Using this process, high-performance PJFET with IDSS = 150-350μA (W/L = 10:1), Ve= 0. 8-1.2 V, and IGSS= 10^-12-10^-11 A, and NPN transistor with β =100-250, BVCEO≥ 36 V, and Va ≥100 V were realized. And based on bipolar junction field effect transistor (BJFET), a high-precision integrated operational amplifier with bias current below 100 oA was develooed.

关 键 词:PJFET NPN管 PJFET-双极兼容工艺 集成运算放大器 

分 类 号:TN433[电子电信—微电子学与固体电子学]

 

参考文献:

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