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作 者:王印月[1] 郑树凯 杨映虎[1] 郭永平[1] 奇莉[2] 甘润今
机构地区:[1]兰州大学物理系 [2]北京机械工业学院基础部
出 处:《光学学报》1998年第9期1265-1268,共4页Acta Optica Sinica
基 金:国家和甘肃省自然科学基金
摘 要:用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc-Ge/SiO2)。测量了不同温度退火后该复合膜的拉曼散射光谱,其结果与晶体Ge的拉曼谱相比,纳米Ge的拉曼峰位红移峰形变宽;用拉曼谱的参数计算了纳米Ge晶粒的平均尺寸。Germanium nanocrystals embedded in SiO 2 glassy matrix have been prepared on glass substrates and Si(100) wafers by r.f. cosputtering and post annealing methods. Raman scattering spectra at various annealing temperature were measured. Compared with bulk Ge, a red shift and broadening of Raman scattering spectra were observed. According to the parameters of Raman scattering spectra, we calculated the average crystal size of nc Ge. The experimental results are in agreement with the phonon confinement theory.
分 类 号:TN304.11[电子电信—物理电子学] O48[理学—固体物理]
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