澳大利亚研制纳米电子束曝光系统是制作微小纳米电子元件的最佳设备  

出　　处：《光学仪器》2009年第5期77-77,共1页Optical Instruments

摘　　要：据澳大利亚莫纳什大学网站报道，澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统（EBL）。该系统可标记纳米级的物体，还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。电子束曝光技术可直接刻画精细的图案，是实验室制作微小纳米电子元件的最佳选择。这款耗资数百万美元的曝光系统将在澳大利亚亮相，并有能力以很高的速度和定位精度制出超高分辨力的纳米图形。

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分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TN401