电子束曝光技术

作品数：11被引量：9H指数：2
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相关机构：中国科学院南京大学中国科学院微电子研究所北京空间飞行器总体设计部更多>>
相关期刊：《微纳电子技术》《电子显微学报》《中国科技信息》《微电子技术》更多>>
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面向窄线宽超导纳米线单光子探测器的电子束曝光技术
《低温物理学报》2020年第4期199-205,共7页汤演 刘晓宇 潘一铭 周慧 尤立星 
国家重点基础研究发展计划重点专项(批准号:2017YFA0304000);国家自然科学基金(批准号:61671438)资助的课题。
超导纳米线单光子探测器是新型超导电子器件,因其具有高探测效率、低暗计数及低时间抖动等优势,在量子信息、激光雷达等方面已得到广泛的应用.目前主流超导纳米线单光子探测器主要工作在1.5μm以下的可见光和近红外波段.中红外波长的红...
关键词：超导纳米线单光子 电子束曝光 电子束抗蚀剂 红外波段单光子探测 MaN-2401 
澳大利亚研制纳米电子束曝光系统是制作微小纳米电子元件的最佳设备
《光学仪器》2009年第5期77-77,共1页
据澳大利亚莫纳什大学网站报道，澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统（EBL）。该系统可标记纳米级的物体，还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。电子束曝光技术可直接刻画精细的图案，...
关键词：电子束曝光系统 纳米设备 实验室制作 澳大利亚 电子元件 电子束曝光技术 研究人员 纳米图形 
HSQ用于电子束曝光的性能分析被引量：2
《微细加工技术》2008年第4期10-13,共4页赵珉 陈宝钦 刘明 谢常青 朱效立 
国家973项目资助(2006CB0N0604)
作为一种非化学放大的无机负性电子束光刻抗蚀剂,HSQ(hydrogen silsesquioxane)具有极高的分辨率(约5 nm),由于灵敏度较低,限制了其在微纳米加工方面的应用。从化学结构变化的角度分析了HSQ在电子束曝光中的性能,通过实验验证了其灵敏...
关键词：HSQ(hydrogen silsesquioxane) 电子束曝光技术 抗蚀剂工艺 邻近效应 
高能电子束纳米曝光系统的研制
《电子显微学报》2003年第6期641-642,共2页田丰 韩立 顾文琪 
关键词：高能电子束纳米曝光系统 微电子产业 半导体器件 光学光刻技术 电子束曝光技术 高分辨 
电子束曝光技术发展概况
《世界产品与技术》2002年第4期27-29,共3页张建宏 刘明 
电子束曝光技术是近30年来发展起来的一门新兴技术,它集电子光学、精密机械、超高真空、计算机、自动控制等近代高新技术于一体,是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术之一,电子束曝光技术已成为一个国家整体技术水平的...
关键词：电子束 曝光技术 微电子技术 SEM 高斯扫描系统 成型束 抗蚀剂 
电子束直写直栅和T形栅工艺技术应用
《微纳电子技术》2002年第4期42-43,共2页刘玉贵 王维军 罗四维 江泽流 
介绍了用电子束直写技术在GaAs圆片上制作≤0.5μm栅和T形栅的工艺技术,并在GaAs器件的研制中得到应用。
关键词：电子束直写直栅 T形栅工艺技术 电子束曝光技术 GAAS器件 
微细加工技术——光刻技术简介
《中国科技信息》2001年第22期52-53,共2页
随着信息时代的到来,信息高速公路、网络技术、移动通信技术和多媒体技术的飞速发展,促进了高集成度、超高速、超高频集成电路及器件的研制与开发,特征尺寸越来越细,加工尺寸进入深亚微米、百纳米以至纳米级.图1是新型计算机硬盘读头的...
关键词：微细加工技术 光刻技术 电子束曝光技术 微电子工艺技术 
美国IBM公司开发的超精细曝光技术
《微电子技术》1998年第6期40-40,共1页
关键词：电子束曝光技术 光致抗蚀剂 IBM公司 超精 硅圆片 KRF激光 硅氧烷树脂 激光光束 加工阶段 存在空间 
电子束纳米加工技术研究现状被引量：5
《微细加工技术》1998年第2期1-9,共9页卢维美 
纳米科学技术是８０年代后期发展起来面向２１世纪的高新技术，纳米加工技术是制造量子微结构的主导技术。电子束纳米加工推动着微细加工技术的研究向着分子、原子量级的纳米层次发展。本文重点介绍电子束纳米曝光技术的研究现状及发展...
关键词：纳米技术 电子束曝光技术 微电子技术 IC 
集成电路与半导体器件制造中的电子束曝光技术被引量：2
《微细加工技术》1993年第1期1-8,共8页张俊国 
本文叙述了国际上电子束曝光技术的发展趋势,分析了我国电子束曝光技术的发展现状,回顾了电子部四十八所电子束曝光技术的进展及其在微电子器件制造中成功的应用。
关键词：电子束曝光 集成电路 半导体器件 制造 
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