电子束抗蚀剂

作品数：8被引量：6H指数：1
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相关机构：中国科学院微电子研究所中国科学院南京大学国家纳米科学中心更多>>
相关期刊：《微纳电子技术》《现代化工》《化工新型材料》《低温物理学报》更多>>
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面向窄线宽超导纳米线单光子探测器的电子束曝光技术
《低温物理学报》2020年第4期199-205,共7页汤演 刘晓宇 潘一铭 周慧 尤立星 
国家重点基础研究发展计划重点专项(批准号:2017YFA0304000);国家自然科学基金(批准号:61671438)资助的课题。
超导纳米线单光子探测器是新型超导电子器件,因其具有高探测效率、低暗计数及低时间抖动等优势,在量子信息、激光雷达等方面已得到广泛的应用.目前主流超导纳米线单光子探测器主要工作在1.5μm以下的可见光和近红外波段.中红外波长的红...
关键词：超导纳米线单光子 电子束曝光 电子束抗蚀剂 红外波段单光子探测 MaN-2401 
电子束抗蚀剂图形结构的倒塌与粘连被引量：5
《微纳电子技术》2011年第1期63-68,共6页赵珉 陈宝钦 牛洁斌 谢常青 刘明 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604)
首先从实验现象出发,阐述了纳米级高密度、高深宽比电子抗蚀剂图形结构发生倒塌与粘连的主要几何因素及其关系。除了结构的几何因素外,结合"Beam Sway"模型分析了抗蚀剂微细结构在制作过程中的受力情况。在上述工作的基础上,提出了克服...
关键词：电子束光刻 抗蚀剂 高深宽比 倒塌 超临界二氧化碳干燥 
应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究被引量：1
《纳米技术与精密工程》2009年第3期275-278,共4页赵珉 陈宝钦 刘明 任黎明 谢常青 朱效立 安南 
国家重点基础研究发展计划(973)项目(2006CB0N0604)
为了满足电子束光刻(EBL)对高分辨率、性能优秀抗蚀剂的需求,研究了将Calixarene衍生物作为电子束抗蚀剂在胶液配制、电子束曝光及显影等工艺过程中的相关技术.其中电子束曝光实验在JEOL JBX-5000LS系统上进行.实验结果表明,在入射电子...
关键词：纳米制造 电子束光刻 工艺技术 电子束抗蚀剂 CALIXARENE 
电子束抗蚀剂反差的计算
《山东大学学报（工学版）》2006年第6期121-124,共4页郝慧娟 张玉林 宋会英 
国家自然科学基金重大研究计划资助项目(90307003);山东省自然科学基金资助项目(Y2003G03);山东省科技攻关计划基金资助项目(022090105)
为了更精确地确定电子束抗蚀剂的反差,借助优化的电子散射模型,利用改进的Monte Carlo算法模拟了电子束在固体中的散射过程,得到了不同曝光条件下抗蚀剂中的能量沉积分布,再结合电子的空间分布密度函数,根据反差的定义,提出了一种计算...
关键词：电子束 反差 MONTE CARLO模拟 
化学增幅电子束抗蚀剂的研究概况
《信息记录材料》2003年第3期34-38,共5页杨凌露 张改莲 余尚先 
本文综述了近 10年来电子束化学增幅抗蚀剂的概况、主要组成、成像反应机理及电子束抗蚀剂的发展方向。
关键词：化学增幅 电子束 抗蚀剂 正性 负性 组成 成像机理 酚树脂 有机硅材料 
富勒烯作为电子束抗蚀剂在纳米光刻中的应用
《微细加工技术》2000年第4期1-5,共5页夏强 顾宁 
国家自然科学基金资助项目!( 69890 2 2 0 )
纳米光刻对于纳米电子学的研究与发展具有非常重要的意义。分子尺寸为 0 7纳米且可发生电子束诱导聚合的富勒烯 (主要是C6 0 ) ,可以作为电子束抗蚀剂 ,用于电子束纳米光刻 ,制作纳米级精细图形。这类抗蚀剂主要有三种类型 :纯C6 0 、C...
关键词：富勒烯 纳米光刻 电子束抗蚀剂 
导电性电子束抗蚀剂
《化工新型材料》1989年第8期40-41,共2页华彬 
随着集成电路图形的微细化,具有微细图形描绘能力的电子束曝光益显重要。这种技术可用于光掩膜、中间掩膜、不能用光曝光来形成微细图形的GaAs器件和Si器件的制作,以及特定用途的集成电路(ASIC)的制作等方面。电子束在曝光过程中,当所...
关键词：电子束 导电性 抗蚀剂 集成电路 
电子束光刻和电子束抗蚀剂
《现代化工》1989年第2期39-42,共4页周文钊 
文中介绍了电子束光刻的特点、原理,以及各种电子束抗蚀剂的研究和应用动向。
关键词：电子束 光刻 抗蚀剂 
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