张建宏

作品数：5被引量：14H指数：2
导出分析报告
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：电子束曝光电子束电子束光刻版图集成电路更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《Journal of Semiconductors》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-5
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
Nano-Level Electron Beam Lithography
《Journal of Semiconductors》2003年第1期24-28,共5页刘明 陈宝钦 王云翔 张建宏 
国家自然科学基金资助项目 (批准号 :6990 60 0 6)~~
The JEOL JBX-5000LS is a vector type machine.The system hardware features an ion-pumped column,a LaB 6 electron emitter,25kV and 50kV accelerating voltage,and a turbo-pumped sample chamber.The resolution,stability,st...
关键词：electron beam lithography system RESOLUTION overlay accuracy 
PREVAIL——下一代电子束投影曝光技术被引量：1
《微细加工技术》2002年第2期1-4,共4页王云翔 刘明 陈宝钦 李友 张建宏 张卫红 
国家自然科学基金资助项目 (6 990 6 0 0 6 )
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术 ,采用可变轴浸没透镜 ,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在 1mm2 子场的情况下 ,运用步进扫描曝光方式 ,在 1 0 0nm临界尺寸下具有较高的产量 ,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有...
关键词：PREVAIL 电子束投影曝光技术 光学光刻技术 NGL 
电子束曝光技术发展概况
《世界产品与技术》2002年第4期27-29,共3页张建宏 刘明 
电子束曝光技术是近30年来发展起来的一门新兴技术,它集电子光学、精密机械、超高真空、计算机、自动控制等近代高新技术于一体,是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术之一,电子束曝光技术已成为一个国家整体技术水平的...
关键词：电子束 曝光技术 微电子技术 SEM 高斯扫描系统 成型束 抗蚀剂 
电子束曝光技术的应用被引量：2
《世界产品与技术》2002年第4期30-31,共2页张建宏 刘明 
电子束曝光技术是一种日益完善的超微细图形加工技术,它被广泛应用于航天通讯国防军工及超大规模集成电路等诸多领域。电子束曝光技术具有极高的分辨率,理论上甚至能达到原子量级。电子束曝光可以在基片上进行无掩膜直接曝光,具有极高...
关键词：集成电路 掩膜版 微型器件制造 低微电子结构 电子束 曝光技术 应用 
电子束曝光中的邻近效应修正技术被引量：11
《微细加工技术》2000年第1期16-20,共5页刘明 陈宝钦 张建宏 李友 
邻近效应是指电子在抗蚀剂和基片中的散射引起图形的改变 ,它严重地影响了图形的分辨率。有多种方法对邻近效应进行修正如剂量调整、图形调整等。我们以JBX 5 0 0 0LS为手段 ,用三种方法 :1图形尺寸修正 ,2大小图形分类和剂量分配 ,3图...
关键词：电子束曝光 邻近效应 集成电路 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部