李友

作品数：3被引量：17H指数：2
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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：电子束曝光超低功耗非挥发性存储器降低功耗电极结构更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微细加工技术》更多>>
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PREVAIL——下一代电子束投影曝光技术被引量：1
《微细加工技术》2002年第2期1-4,共4页王云翔 刘明 陈宝钦 李友 张建宏 张卫红 
国家自然科学基金资助项目 (6 990 6 0 0 6 )
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术 ,采用可变轴浸没透镜 ,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在 1mm2 子场的情况下 ,运用步进扫描曝光方式 ,在 1 0 0nm临界尺寸下具有较高的产量 ,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有...
关键词：PREVAIL 电子束投影曝光技术 光学光刻技术 NGL 
复杂微光刻图形版图设计系统被引量：5
《微细加工技术》2002年第2期15-18,23,共5页胡勇 黄广宇 陈宝钦 李友 
介绍了一种自主开发的复杂微光刻图形版图绘制系统。该系统能根据用户的要求自动成组地批处理各种圆环、螺旋线、椭圆环、扇形、条形码等图形 ,以及根据用户输入的任意表达式来生成特殊形状图形 ,同时它具有方便的图形形态处理功能 ,包...
关键词：微光刻图形 版图设计系统 图形变换 
电子束曝光中的邻近效应修正技术被引量：11
《微细加工技术》2000年第1期16-20,共5页刘明 陈宝钦 张建宏 李友 
邻近效应是指电子在抗蚀剂和基片中的散射引起图形的改变 ,它严重地影响了图形的分辨率。有多种方法对邻近效应进行修正如剂量调整、图形调整等。我们以JBX 5 0 0 0LS为手段 ,用三种方法 :1图形尺寸修正 ,2大小图形分类和剂量分配 ,3图...
关键词：电子束曝光 邻近效应 集成电路 
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