张卫红

作品数：1被引量：1H指数：1
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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：光学光刻技术下一代高分辨率分辨率光掩模更多>>
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PREVAIL——下一代电子束投影曝光技术被引量：1
《微细加工技术》2002年第2期1-4,共4页王云翔 刘明 陈宝钦 李友 张建宏 张卫红 
国家自然科学基金资助项目 (6 990 6 0 0 6 )
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术 ,采用可变轴浸没透镜 ,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在 1mm2 子场的情况下 ,运用步进扫描曝光方式 ,在 1 0 0nm临界尺寸下具有较高的产量 ,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有...
关键词：PREVAIL 电子束投影曝光技术 光学光刻技术 NGL 
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