电子束曝光技术发展概况  

作　　者：张建宏[1] 刘明[1] 

机构地区：[1]中国科学院微电子中心制版与微细加工实验室

出　　处：《世界产品与技术》2002年第4期27-29,共3页

摘　　要：电子束曝光技术是近30年来发展起来的一门新兴技术,它集电子光学、精密机械、超高真空、计算机、自动控制等近代高新技术于一体,是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术之一,电子束曝光技术已成为一个国家整体技术水平的象征。先进的电子束曝光机主要用于0.1～0.5微米的超微细加工,甚至可以实现纳米线条的曝光。电子束曝光技术广泛地应用于高精度掩膜、移相掩膜及X射线掩膜制造;新一代集成电路的研究及ASIC的开发;新器件。

关 键 词：电子束 曝光技术 微电子技术 SEM 高斯扫描系统 成型束 抗蚀剂 

分 类 号：TN405.98[电子电信—微电子学与固体电子学]