高能电子束纳米曝光系统的研制  

Development of high energy electron beam nano lithography system

作　　者：田丰[1] 韩立[1] 顾文琪[1] 

机构地区：[1]中国科学院电工研究所,北京100080

出　　处：《电子显微学报》2003年第6期641-642,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词：高能电子束纳米曝光系统 微电子产业 半导体器件 光学光刻技术 电子束曝光技术 高分辨 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]