Advance of Nanolithography, its Applications and ProspectsAdvance of Nanolithography, its Applications and Prospects  

作　　者：CHEN Yi-fang 

机构地区：[1]Micro and Nanotechnology Centre, Rutherford Appleton Laboratory, Science and Technology Facility Council, Chihon, Didcot, Oxon, OX11 0QX, UK

出　　处：《纳米科技》2009年第5期3-10,共8页

关 键 词：印刷技术 纳米制造技术 光子超材料 光刻技术 

分 类 号：TS805[轻工技术与工程] TB383[一般工业技术—材料科学与工程]