物理气相沉积法制备薄膜的内应力形成机理及测量方法  

作　　者：张瑛[1] 杨俊峰[2] 方前锋[2] 

机构地区：[1]中国科学院合肥物质科学研究院图书馆 [2]中国科学院固体物理研究所,合肥230031

出　　处：《科技创新导报》2009年第34期108-110,共3页Science and Technology Innovation Herald

摘　　要：本文介绍了用物理气相沉积(PVD)方法制备薄膜的应力与微观结构的变化,及它们之间的相互关系,总结了应力产生的模型和机理。并就岛状模式生长多晶薄膜中的应力可逆现象给予了关注。最后,总结了当前薄膜应力的测试方法。

关 键 词：物理气相沉积 薄膜 内应力 

分 类 号：O345[理学—固体力学]