溅射沉积TiO_2薄膜结构及性能的基础研究  

Basic studies on the microstructure of TiO_2 thin films fabricated by sputtering

作　　者：吉亚萍[1] 张琳琳[1] 李鹏[1] 侯兴刚[1,2] 黄美东[1] 

机构地区：[1]天津师范大学物理与电子信息学院,天津300387 [2]北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京100875

出　　处：《天津师范大学学报（自然科学版）》2010年第1期33-36,共4页Journal of Tianjin Normal University：Natural Science Edition

基　　金：教育部留学回国科研启动基金资助项目(2008);天津师范大学中青年教师学术创新资助项目(52X09038)

摘　　要：采用超高真空反应射频磁控溅射方法,利用高纯Ti靶在光学玻璃基底上制备具有一定厚度的TiO2薄膜样品.通过扫描探针显微镜对其表面形貌进行观测和分析,利用XRD初步探讨了退火对薄膜结构及其透射率的影响,并研究了不同O2/Ar流量比对薄膜沉积速率的影响.TiO2 thin films with a certain thickness were fabricated on optical glass by RF reactive magnetron sputtering.The morphology of the TiO2 thin films was investigated and analyzed using scanning probe microscopy.The effects of annealing were discussed on the microstructure and the transmission spectra,and the influence of the ratio of O2/Ar on the deposition rate was also investigated.

关 键 词：磁控溅射 TIO2薄膜 退火 

分 类 号：TB79[一般工业技术—真空技术] O43[机械工程—光学工程]