同轴对准系统及输出光强的机辅分析  

作　　者：胡松[1] 陈伟明[1] 姚汉民[1] 刘业异[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1998年第4期9-13,53,共6页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：介绍亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统的成像机理和工作过程。该系统在掩模和硅片上均刻有时准光栅标记。经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩模和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由电路实施解调，提供了一种保持高信噪比，又使弱信号探测不降低精度的对准方案；并通过计算机辅助分析的手段，讨论了ＳＡＶＡＲＴ的剪切量、工件台运动速度等对该系统输出信号的影响。

关 键 词：投影光刻机 对准系统 计算机辅助分析 硅片 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TN304.12