投影光刻机

作品数：76被引量：111H指数：5
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相关机构：中国科学院中国科学院上海光学精密机械研究所清华大学中国电子科技集团第十三研究所更多>>
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缩小步进投影光刻机在碲镉汞红外探测器芯片工艺中的应用
《红外》2023年第5期1-7,共7页赵成城 陈书真 雷峥 孟晓兰 
光刻是制备碲镉汞红外探测器芯片过程中非常关键的工艺。目前绝大部分碲镉汞芯片制备都是使用接触式光刻技术,但是在曝光面型起伏较大的芯片时工艺均匀性较差,并且掩膜在与芯片接触时容易损伤芯片。针对接触式光刻的这些缺点,利用尼康...
关键词：碲镉汞 红外探测器 缩小步进投影光刻 
投影光刻机调平调焦系统原理与故障分析被引量：2
《电子工业专用设备》2019年第1期37-40,共4页张文雅 赵英伟 
以某型投影光刻机为例介绍了调平调焦系统的基本原理和主要构成,详细叙述了调平调焦系统的运行步骤,并结合多年的投影光刻机维修经验总结了调平调焦系统的常见故障,给出了处理故障的方法和步骤。
关键词：调平 调焦 投影光刻机 
投影光刻机中气相分子污染物(AMC)的控制及检测被引量：1
《电子技术（上海）》2019年第1期57-59,共3页李佳 
上海市高科技企业技术创新课题项目.
投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的加工质量和成品率,并会影响工作人员的身体健康。介绍AMC的分类、危害、控制方法及检测方法,为投影光刻...
关键词：集成电路制造 光刻机分子污染物 高纯气体分子 酸分子碱凝缩物 掺杂物 
步进投影光刻机及其常见故障分析被引量：2
《电子工业专用设备》2018年第2期40-45,共6页雷宇 
根据步进投影光刻机的基本原理及其基本结构,分析了影响投影光刻工艺的主要因素。根据多年对设备的维修经验,总结了ASML步进投影光刻机的常见故障并给出了相应的解决方法。
关键词：曝光 预对准 调平调焦 同轴对准 
投影光刻机TTL对准原理与故障分析被引量：2
《电子工业专用设备》2016年第4期29-32,共4页张文雅 宋健 
论述了ASML公司某型投影光刻机TTL对准系统的基本原理和主要构成,介绍了对准系统在光刻工艺中的工作过程,结合多年的投影光刻机维修经验总结了对准系统的常见故障,并给出了分析以及解决方法。
关键词：氦氖激光器 同轴对准 投影光刻机 
基于双频激光干涉仪的投影光刻机工作台定位原理与故障分析被引量：1
《电子工业专用设备》2016年第2期27-30,共4页张文雅 宋健 
介绍了双频激光干涉仪利用光的干涉和多普勒效应测距的原理以及距离的计算方法,并以此为基础介绍了双频激光干涉仪在投影光刻机工作台精确定位系统中的应用与工作原理,结合多年的投影光刻机维修经验分析了两例双频激光干涉仪及工作台系...
关键词：投影光刻机 双频激光干涉仪 多普勒效应 
基于人机工程学的步进式投影光刻机外观设计思考
《机械》2016年第1期69-73,共5页陈韵竹 蒲小琼 魏晓霞 
以人机工程学为基础,对步进式投影光刻机外观进行分析思考。从产品使用者的角度出发,综合运用人机工程学、工效学、设计心理学等方面知识,并结合光刻机具体的使用方法和工作环境,设计出更人性化、更具亲和力且融合功能性、实用性、量产...
关键词：步进式投影光刻机 外观设计 人机工程学 
高亮度LED步进投影光刻机及其量产应用
《电子工业专用设备》2014年第2期11-17,60,共8页陈勇辉 李志丹 孙刚 张俊 
图形化蓝宝石衬底（PSS）工艺在改善GaN晶体外延生长质量以及提升LED器件发光提取效率方面作用显著,并被LED行业大量采用。针对高亮度LED量产线大量采用二手投影光刻机制备PSS衬底所面临的焦深不足、垂向控制容易离焦,以及运动台拼接精...
关键词：光刻机 图形化蓝宝石衬底 发光二极管 氮化镓 
首台应用于AM—OLED显示屏制造的国产投影光刻机上线
《集成电路应用》2013年第9期44-44,共1页
近日，由上海微电子装备有限公司自主研制的首台应用于AM—OLED显示屏TFT电路制造的2．5代投影光刻机SSB225／10A通过用户出厂验收，顺利发运全客户处上线试用。未来，SMEE还将为国内平板显示产业提供更高代TFT电路制造投影光刻机产品...
关键词：OLED显示屏 投影光刻机 制造 AM 应用 平板显示产业 国产 国际竞争力 
用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计被引量：18
《中国激光》2013年第6期308-312,共5页胡中华 杨宝喜 朱菁 肖艳芬 曾爱军 黄惠杰 
国家科技重大专项(2011ZX02402);国家国际科技合作项目(2011DFR10010)资助课题
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DOE进行了具体的设计。仿真分...
关键词：光学设计 衍射光学元件 混合分区设计 迭代傅里叶变换 光瞳整形 投影光刻 
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