多腔室溅射设备──CERAUSXZ-1000  

作　　者：赵忠文 

出　　处：《电子工业专用设备》1998年第4期48-53,共6页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：半导体工艺进入０．２５μｍ时代，对溅射设备的微细化技术要求逐步接近极限。同时，设备投资效率的提高也是一个十分关键的环节，不仅要提高产量。还要提高包括保养时间在内的生产效率。日本真空技术公司的ＣＥＲＡＵＳＺＸ－１０００即属满足这种时代要求的设备。

关 键 词：半导体工艺 多腔室 溅射设备 

分 类 号：TN305.92[电子电信—物理电子学]