溅射设备

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浅谈磁控溅射镀膜工艺中的反应溅射
《建筑玻璃与工业玻璃》2019年第3期4-8,共5页陈大伟 
本文介绍了磁控溅射镀膜工艺、磁控溅射设备、非反应溅射与反应溅射:反应溅射是一个非常复杂的过程。重点对反应溅射中的“直流氧化溅射”、“阳极消失效应”、“靶材中毒现象”、“磁滞效应现象”、“金属模式”、“过渡模式”、“反...
关键词：反应溅射 磁控溅射 镀膜工艺 磁滞效应 溅射工艺 溅射设备 中毒现象 过渡模式 
Vitro大型镀膜玻璃生产线正式投产运营
《建筑玻璃与工业玻璃》2018年第9期41-41,共1页
历经14个月的建设,Vitro玻璃集团位于美国德克萨斯州Wichita Falls的大型磁控溅射镀膜玻璃生产线正式投入生产运营。据悉,该机器也是北美地区最大的磁控溅射设备,宽度超过Vitro原有设备的22%,长度超过50%,可生产产品标准尺寸(96×130英...
关键词：磁控溅射镀膜 玻璃生产线 运营 投产 溅射设备 标准尺寸 德克萨斯州 北美地区 
溅射设备腔室处理工艺的优化研究
《电子与封装》2016年第4期45-47,共3页王海东 
对溅射原理进行了详细的分析,对溅射设备的结构组成进行了概括性的说明。研究了溅射腔室的传统工艺处理流程,并提出了新的工艺处理流程。实验表明,新的工艺流程更加省时省力,效果上也更好,应用于实际中,带来了一定的经济效益。
关键词：溅射设备 腔室处理 溅射工艺 工艺优化 
第十九讲 真空溅射镀膜
《真空》2015年第1期79-80,共2页张以忱 
近年来,随着溅射设备及工艺方法的不断创新,无论是金属,还是其他材料均可用溅射技术制备薄膜,满足各行各业的需求。5.2直流二级溅射普通直流二极溅射是在溅射靶材上施加直流负电位（称阴极靶）,阳极为放置被镀工件的基片架。
关键词：溅射镀膜 真空技术 讲座 应用 工艺方法 溅射设备 溅射技术 溅射靶材 
太原科技大学材料学学科
《中国机械工程》2006年第8期F0003-F0003,共1页
太原科技大学（原太原重型机械学院）材料学学科含金属材料、无机非金属材料和材料物理等学科方向。学科拥有“山西省镁及合金工程技术研究中心”和“先进材料研究中心”校能重点实验室。拥有合金熔炼及熔体快淬设备、超高真空磁控与离...
关键词：学科方向 材料学 太原 大学 科技 工程技术研究中心 无机非金属材料 热处理设备 合金熔炼 溅射设备 
MgO(111)上NbN和AlN薄膜的生长研究被引量：5
《低温物理学报》2005年第3期207-210,共4页陈亚军 康琳 蔡卫星 施建荣 赵少奇 吉争鸣 吴培亨 
在制备NbN/AlN/NbN隧道结的工艺过程中,为了获得具有优质单晶结构的NbN薄膜,我们在MgO(111)基片上探索了直流溅射法制备NbN薄膜的生长工艺条件,XRD研究分析表明,我们获得了单晶结构良好的NbN薄膜;为了支持作为上电极的NbN薄膜的生长,也...
关键词：NbN AIN 磁控溅射 XRD C轴取向 NbN薄膜 AIN薄膜 生长研究 单晶结构 制备研究 直流溅射法 工艺过程 工艺条件 溅射设备 
多腔室溅射设备──CERAUSXZ-1000
《电子工业专用设备》1998年第4期48-53,共6页赵忠文 
半导体工艺进入０．２５μｍ时代，对溅射设备的微细化技术要求逐步接近极限。同时，设备投资效率的提高也是一个十分关键的环节，不仅要提高产量。还要提高包括保养时间在内的生产效率。日本真空技术公司的ＣＥＲＡＵＳＺＸ－１０００...
关键词：半导体工艺 多腔室 溅射设备 
美国Varian公司几种溅射设备简介
《四川真空》1996年第3期23-26,22,共5页叶杭 
关键词：半导体 溅射设备 
适用于256MDRAM的溅射设备──PRIMUS─2500
《电子工业专用设备》1996年第3期52-59,共8页席秉钧 
随着ＶＬＳＩ设计尺寸的细微化，关于布线层的形成，有许多难题迫切需要解决。本文就该公司在用于２５６ＭＤＲＡＭ的溅射设备ＰＲＩＭＵＳ──２５００上解决这些问题的情况加以叙述。
关键词：VLSI 设计 测射设备 
溅射设备真空系统故障与诊断
《真空》1993年第3期35-38,10,共5页谢其中 谢长生 王立环 
本文介绍了应用真空溅射方法形成膜层，设备真空系统常见故障诊断及排除。
关键词：溅射 真空系统 故障 诊断 镀膜 
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