第十九讲 真空溅射镀膜  

作　　者：张以忱[1] 

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2015年第1期79-80,共2页Vacuum

摘　　要：近年来,随着溅射设备及工艺方法的不断创新,无论是金属,还是其他材料均可用溅射技术制备薄膜,满足各行各业的需求。5.2直流二级溅射普通直流二极溅射是在溅射靶材上施加直流负电位（称阴极靶）,阳极为放置被镀工件的基片架。

关 键 词：溅射镀膜 真空技术 讲座 应用 工艺方法 溅射设备 溅射技术 溅射靶材 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB4[理学—物理]