光学介质薄膜抗激光损伤特性的研究  

作　　者：李荣[1] 徐均琪[1] 苏俊宏[1] 杭凌侠[1] 

机构地区：[1]西安工业大学光电工程学院,西安710032

出　　处：《科技创新导报》2010年第10期112-114,共3页Science and Technology Innovation Herald

基　　金：国家科技部资助项目(2007DFR70180);陕西省科技厅资助项目(2008KW-12)

摘　　要：采用离子束辅助沉积的方式镀制了几种介质膜料的单层膜。利用1.064μm调Q Nd:YAG脉冲激光器,对它们的损伤特性进行了研究。观察并讨论了在不同激光能量下薄膜的损伤现象,同时利用TaylorHobson干涉仪检测了薄膜表面的粗糙度变化。研究表明,在不同的激光能量下,单层HfO2薄膜出现了不同的损伤形态,且表面粗糙度随着激光能量的增加有正相关的变化;在同一激光能量下,不同工艺条件制备的HfO2薄膜有不同程度的损伤,可以得到较好的制备工艺参数;三种不同的氟化物薄膜即氟化镁(MgF2)、氟化钡(BaF2)、氟化钇(YF3)在相同的激光能量下,也出现了不同的损伤形貌,得出了损伤阈值高的薄膜是氟化钇薄膜。

关 键 词：光学介质薄膜 激光损伤 损伤形态 

分 类 号：TN24[电子电信—物理电子学]