杭凌侠

作品数：108被引量：421H指数：10
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发文主题：类金刚石薄膜表面粗糙度离子源离子能量光学薄膜更多>>
发文领域：理学电子电信一般工业技术金属学及工艺更多>>
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PECVD技术制备光学薄膜的研究进展被引量：8
《激光与光电子学进展》2020年第13期37-48,共12页杭良毅 刘卫国 杭凌侠 周顺 
国防基础科研项目(JCKY2016208A002);装备预先研究项目(41423020111)。
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在制备高激光损伤阈值的激光薄膜和渐变折射率结构的光学薄膜方面有独特的优点。通过大量的工艺研究,人们掌握了调控光学薄膜材料折射率和降低消光系数的方法。目前已知薄膜的最低折射率为1.16±0.0...
关键词：光学薄膜 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 折射率 消光系数 
减反膜的梯度化与激光损伤阈值之间的关系研究被引量：6
《应用光学》2019年第1期143-149,共7页王燕 杭凌侠 
总装先进制造技术基金
光学减反膜是激光系统的重要组成部分,也是在激光照射下最容易发生损伤的部分,如何提高减反膜的激光损伤阈值是研究的热点之一。在保持目标透射光谱要求和膜系总光学厚度不变的前提下,研究了不同梯度化减反膜与激光损伤阈值之间的关系...
关键词：梯度化 减反膜 透过率 电场 激光损伤阈值 
PECVD工艺对SiO_xN_y光学薄膜红外吸收特性的影响被引量：1
《西安工业大学学报》2018年第3期257-261,共5页李松晓 杭凌侠 
为了研究SiO_xN_y光学薄膜在红外区的应用特性.文中采用PECVD技术沉积折射率为1.60的SiO_xN_y光学薄膜,设计制造了相同制备工艺参数(功率、温度、压强)的不同薄膜厚度样片和不同制备工艺参数的相同厚度的两类实验样片,通过对SiO_xN_y薄...
关键词：光学薄膜 SiOxNy 红外吸收特性 PECVD技术 
硫系玻璃基底PECVD法沉积光学薄膜工艺研究被引量：1
《西安工业大学学报》2017年第5期368-374,共7页费海明 杭凌侠 
针对硫系玻璃(IRG204)的低软化点特点,为研究等离子体辅助化学气相沉积法(PECVD)在硫系玻璃基底低温沉积薄膜的可行性以及工艺条件,通过氩离子轰击工艺确定基底可承受的离子辅助轰击强度和时间,并在此基础上,以100℃的温度分别制备了SiN...
关键词：硫系玻璃 等离子体辅助化学气相沉积 光学薄膜 光学特性 摩擦特性 
1064nm高反射膜的PECVD法制备及其抗激光损伤性能被引量：1
《应用激光》2017年第2期288-291,共4页杨陈 杭凌侠 李林军 郭峰 
陕西省教育厅重点实验室科研计划资助项目(项目编号:16JS037)
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备氮化硅(SiNx)和含氟氧化硅(SiOxFy)薄膜,探讨了薄膜材料的最佳制备工艺参数,明确了薄膜光学特性与气体流量、射频功率、反应压强等制备工艺参数的关系;设计并制备了1 064nm高反射膜,并与PV...
关键词：薄膜 PECVD 高反膜 损伤阈值 
PECVD技术制备多波段渐变减反膜
《光学技术》2016年第3期248-251,共4页黄发彬 杭凌侠 龚勋 张笑 
介绍了利用傅里叶变化法设计多波段渐变减反膜的原理和方法，研究了采用该方法设计多波段减反膜时Q函数的优选流程，给出了最优Q函数。设计优化得到了在350-5000nm波段范围平均透过率大于90％的多层渐变减反膜系结构，并采用等离子体增...
关键词：PECVD 渐变折射率 多波段 减反膜 
1550nm陷波滤光片制备工艺技术研究被引量：5
《应用光学》2016年第1期118-123,共6页龚勋 杭凌侠 黄发彬 
陷波滤光片在抗激光损伤、激光防护和光电对抗领域应用广泛,如何提高其通带透过率,降低陷波点透过率是研究热点之一。基于Rugate理论设计了400nm^2 500nm波段1 550nm陷波滤光片,分析了Rugate折射率函数各参数对光谱性能的影响。采用PECV...
关键词：PECVD Rugate 陷波滤光片 
单层二氧化钛薄膜的偏振散射特性被引量：1
《红外与激光工程》2015年第10期3015-3019,共5页潘永强 田爱玲 杭凌侠 
陕西省自然科学基础研究计划(2014JM8333);陕西省教育厅专项科研计划(2013JK1108);兵器预研支撑基金(9140A18020114BQ03251)
为了用散射法研究单层薄膜表面粗糙度的变化规律,以光学薄膜矢量光散射理论为基础,分析了单层二氧化钛薄膜分别在完全相关和完全非相关模型下的偏振双向反射分布函数,以及P偏振入射光引起的P偏振的BRDFpp随散射方位角的变化关系。理论...
关键词：薄膜 矢量光散射 偏振散射 偏振双向反射分布函数 
入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响被引量：7
《光子学报》2015年第10期45-51,共7页马丽娜 张锦 蒋世磊 孙国斌 杨国锋 杭凌侠 弥谦 计玮 
陕西省教育厅重点实验室科研计划(No.13JS038);陕西省科技厅重点实验室项目(No.2013SZS14-P01);广东省科技厅高新区发展引导专项(No.2011B010700101);西安工业大学校长科研基金(No.XAGDXJJ1303)资助~~
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图...
关键词：多光束干涉 干涉光刻 周期结构 角度偏差 光强偏差 干涉光强分布 
PECVD技术制备单层光学薄膜抗激光损伤特性研究被引量：5
《应用光学》2015年第2期206-213,共8页李鹏 杭凌侠 徐均琪 李林军 
采用PECVD技术在BK7玻璃基底上沉积了不同厚度的单层SiO2(折射率为1.46)和SiNx(折射率为1.84)光学薄膜,并对这2种膜层进行抗激光损伤阈值(LIDT)测试,分析讨论了PECVD技术制备的单层光学薄膜与抗激光损伤特性之间的关系。实验结果表明:PE...
关键词：PECVD 光学薄膜 激光损伤阈值 激光损伤特性测试装置 损伤形貌 
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