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作 者:刘渝珍[1,2] 黄允兰[1,2] 石万全[1,2] 刘世祥[1,2] 姚德成[1,2] 张庶元[1,2] 韩一琴[1,2] 陆忠乾[3] 谭寿洪[3] 江东亮[3]
机构地区:[1]中国科学技术大学研究生院 [2]中国科学技术大学 [3]中国科学院上海硅酸盐研究所
出 处:《发光学报》1999年第1期50-54,共5页Chinese Journal of Luminescence
基 金:中国科技大学研究生院院长择优基金
摘 要:在4.68eV的激光激发下,室温CVD合成的纳米SiC粉体,可发射475nm的蓝光,经600~1100℃在N2气氛下进行快速退火(RTA)处理,其荧光强度随退火温度升高而增强,当T≥900℃时,荧光强度下降,但发光峰位与退火温度无关.通过XRD、IR、TEM、XPS等研究。The nanometer SiC powders of 8~10nm were synthesized by CVD at 1100℃. A blue luminescence peaked at 2 61eV (~475nm) were observed from the SiC powders at room temperature. The powders were annealed at 600~1000℃ in dry N 2 atmosphere by the rapid thermal annealing (RTA). The peak intensity of blue luminescent increases as RTA temperature and decreases when the annealing temperature is higher than 900℃. With XRD, IR, TEM, XPS analysis, we concluded that the blue PL emission is caused by oxygen deficiency defects in the SiC/SiO x interface.
分 类 号:TN304.24[电子电信—物理电子学]
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