迈向新世纪的光学光刻  

作　　者：童志义[1] 

机构地区：[1]信息产业部电子第四十五研究所,甘肃平凉744000

出　　处：《电子工业专用设备》1999年第3期2-9,12,共9页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：根据光学光刻所面临的挑战，介绍了１９３ ｎ ｍ 和１５７ ｎ ｍ 光学光刻技术现状及发展趋势，并给出了波前工程技术在光学光刻中的应用对于拓展光学光刻分辨率极限的潜力所在。

关 键 词：光学光刻 半导体器件 制造工艺 OPC OAI PSM 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]